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蝕刻SiO2/SiNx/Si和ITO的可網印和調劑材料, 用於太陽能與顯示器產業

符合高經濟效益和環保處理的蝕刻產品

可網印的蝕刻材料允許利用標準設備進行經濟且大規模的生產。 在isishape™品牌旗下, Merck已經開發出一系列專門對不同抗反射塗佈和鈍化層進行蝕刻的黏膠, 可用於生產太陽電池以及調配各類透明導電材料。

適合蝕刻的材料有:
  • 氮化矽(PE-CVD)
  • 二氧化矽(熱成長, PE-CVD, SOG)
  • 矽(100), 矽(111)和多晶矽
  • 氧化銦錫(ITO)

只要使用標準的絲網印刷方法, 就能保證高產率和高效率。 和一般移除方法 - 例如雷射剝離、光蝕科和電漿蝕刻 - 相比, 蝕刻膠的絲網印刷是一種高產出的方法。再者, 投資成本和操作花費也較低。

目前您可購得且適合太陽光電絲網印刷和調配製成的isishape SolarEtch™產品如下:
  • isishape SolarEtch™ BES
  • isishape SolarEtch™ BRS (含HF) 
  • isishape SolarEtch™ SiS和SiD
目前您可購得且適合顯示器產業絲網印刷和調配製成的isishape HiperEtch™產品如下:
  • isishape HiperEtch™ 01D
  • isishape HiperEtch™ 04S
  • isishape HiperEtch™ 05S 

想要取得更多關於關鍵優勢、特性、處理指南、黏膠移除、包裝尺寸和安全資料表的資訊, 請與我們聯繫

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  • 產品資訊和處理指導方針
  • Merck安全資料表

Merck是您在太陽光電和顯示器產業先進材料和應用的好夥伴。Merck能夠和您緊密配合共同開發滿足您特定需求的新產品。

© 默克集團 Merck KGaA, Darmstadt, Germany 2012

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